17. 如图所示,小明将凸透镜正对太阳,他发现在透镜下方边长为20cm的正方形光屏上有一圆形的光斑,光斑的周围有一圈较暗的圆环。
(1)从各角度都能看到光屏上的光斑,是因为太阳光在光屏表面发生了光的反射,周围较暗圆环是由光的(选填“反射”或“折射”)形成。
(2)小明所用凸透镜的直径约为cm,将光屏远离透镜至某一位置,发现光屏上的光斑一直变小,但没有到最小,测出此时透镜到光屏的距离为l,则l(选填“大于”“小于”或“大于或小于”)f。

18. 2023年2月哈工大宣布突破EUV光刻机关键技术,光刻技术是利用缩图透镜将绘在掩膜上的电路图通过光源投射到涂有光刻胶的硅片上,在硅片上成像越小芯片制程越小。
(1)光源发出的紫外线(选填“能”或“不能”)被人眼直接观察到。
(2)由原理图可知,掩膜在硅片上成像,缩图透镜的焦点在硅片的(选填“上方”或“下方”)。
(3)这次我国直接从90nm突破到了22nm制程的芯片,如果缩图透镜相同,则要将掩膜向(选填“上方”或“下方”)移动。

19. 如图所示,其中表示近视眼的光路示意图是图,矫正近视眼应配戴(选填“凸”或“凹”)透镜制成的眼镜片,将像向(选填“前”或“后”)移,使清晰的像呈现在视网膜上。